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  • 法律状态
  • 优先权
    • 专利摘要:

    公开号:WO1988007101A1
    申请号:PCT/HU1988/000014
    申请日:1988-03-17
    公开日:1988-09-22
    发明作者:Róbert HORVÁTH
    申请人:Horvath Robert；
    IPC主号:D06B11-00
    专利说明:
    [0001] VERFAHREN ZUR NACHTRAGLICHEN MUSTERUNG VON DURCH RUNDSTRICKEN ODER RUNDWIRKEN HERGESTELLTEN KLEI¬ DUNGSSTÜCKEN, INSBESONDERE STRÜMPFEN UND STRUMPF¬ HOSEN Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur nach¬ träglichen Musterung von durch Rundstricken oder Rundwirken hergestellten Kleidungsstücken, insbe¬ sondere Strümpfen und Strumpfhosen.
    [0002] In der letzten Zeit sind gemusterte Strümpfe und Strumpfhosen se.hr in Mode gekommen, und auch bei sonstigen Kleidungsstücken ist ein Bedürfnis nach nachträglicher Ausgestaltung von Mustern ent¬ standen.
    [0003] Zur Herstellung von gemusterten Strümpfen und Strumpfhosen sind grundsätzlich zwei Verfahren bekannt. Gemäß dem einen Verfahren wird gemusterte Meterware hergestellt, und aus dieser werden nach¬ träglich die der Mode entsprechend gemusterten Strümpfe beziehungsweise Strumpfhosen genäht. Im Falle der aus vorher gemusterter Meterware durch Nähen hergestellten Strümpfe und Strumpf¬ hosen ist nachteilig, daß das Nähen als ein spe¬ zieller Arbeitsgang in den Herstellungsprozeß ein¬ gegliedert werden muß und im allgemeinen das Pro- dukt verteuert. Nachteilig ist auch, daß entlang der Naht das Muster - verglichen mit dem Muster an anderen Stellen des Strumpfes beziehungsweise der Strumpfhose - verzerrt erscheint.
    [0004] Bei dem zweiten Verfahren wird der Strumpf be- ziehungsweise die Strumpfhose auf eine ebene Scha¬ blone ausgespannt und in an sich bekannter Weise durch Filmdruck (Siebdruck) mit einem Muster ver¬ sehen.
    [0005] Bei dieser Art der Musterung ist nachteilig, daß auf dem Gebiet, das sich auf der Seite der Schablone befindet, kein Muster angebracht werden kann. Die Verteilung der Musterelemente muß so geplant werden, daß die Entfernung zwischen ihnen größer ist als die Dicke der Schablone. Im Falle einer schachbrettartigen Musterung zum Beispiel muß die Entfernung der Musterele¬ mente voneinander wenigstens so groß sein wie die Dicke der Schablone. Wenn durch Rundstricken oder Rundwirken hergestellte Strumpfhosen oder Strümpfe nachträglich mit einem Muster versehen werden sollen,, so muß das Muster so gewählt werden, daß die Benutzung der Schablone der ästhetischen Wirkung des Musters nicht abträg¬ lich ist .
    [0006] Aufgabe der Erfindung ist die Schaffung eines Verfahrens zur nachträglichen Musterung von durch Rundstricken oder Rundwirken herge¬ stellten Kleidungsstücken, bei dem hinsicht¬ lich der Ausgestaltung des Musters die sich aus der Benutzung der Schablone ergebenden Nachteile wesentlich weniger in Erscheinung t reten .
    [0007] Aufgabe der Erfindung ist ferner die Schaffung einer Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens, mit der das Muster einfacher und schneller ausgebildet werden kann.
    [0008] Die Erfindung beruht auf der Erkenntnis, daß statt der dem Profil des Kleidungsstückes genau folgenden, die Form des Kleidungsstückes abbildenden Schablone eine Schablone gefertigt werden muß, die dem jeweiligen vorgeschriebe¬ nen Muster entspricht und deren Rand ständig mit den zwischen den Musterelementen des Musters befindlichen Spalten zusammenfällt. Auf diese Weise folgen die Ränder der Schablo- einer Wellenlinie, aber das stört bei der An- fertigung des Musters nicht .
    [0009] Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform des Verfahrens wird auf das auf die Schablone gespannte Kleidungss ück mittels Siebdruck ein Bindemittel, zum Beispiel ein Kleber, auf¬ gebracht, und dann werden auf elektrostati¬ schem Wege farbige Flocken auf die Oberfläche aufgetragen, die dort an dem Kleber beziehungs- weise sonstigen Bindemittel haften, bleiben. Bei der zur Durchführung des Verfahrens ge¬ eigneten Einrichtung wird die Schablone aus Blech (Metallplatten) gefertigt , und ihre Rän¬ der verlaufen in den zwischen den Musterele¬ menten des anzufertigenden Musters befindli- chen Zwischenräumen. Die Schablone ist zweck¬ mäßig mit einem Teflon- oder Silikonüberzug versehen, was das Abziehen des Kleidungsstückes erleichtert .
    [0010] Zur Vornahme der elektrosta ischen Behand- lung weist die Einrichtung einen Arbeitstisch auf, der eine metallische Deckplatte hat. Über der Deckplatte und parallel zu dieser, jedoch von ihr isoliert ist eine aus Metall gefertigte Halteplatte angebracht, in der eine der Schablone entsprechende Öffnung ausge¬ bildet ist; Deckplatte und Halteplatte sind mit einem Spannungsgenerator verbunden.
    [0011] Die Erfindung wird im folgenden an Hand von Ausführungsbeispielen mit Hilfe der Zeich- nungen näher erläutert.
    [0012] Fig. 1 zeigt die Seitenansicht einer mit einem Muster versehenen Strumpf¬ hose , in Fig. 2 ist die zur Anfertigung des Musters der in Fig. 1 gezeigten Strumpf- hose dienende Schablone dargestellt, und Fig. 3 zeigt skizzenhaft die Einrichtung zur elektrostatischen Behandlung. Angenommen, die Aufgabe besteht darin, auf der in Fig. 1 dargestellten Strumpfhose 1 das sog. "Panther"-Muster zu gestalten. Erfindungs¬ gemäß wird die Strumpfhose 1 auf die in Fig. 2 gezeigte Schablone 2 aufgezogen; die Ränder 3 der Schablone 2 sind so gestaltet, daß sie in jedem Fall JDit der zwischen den Musterelementen lie¬ genden musterfreien Fläche der Strumpfhose zu¬ sammenfallen. Dadurch sind die Ränder 3 nicht geradlinig, sondern weichen in einer Wellenlinie den ihnen ansonsten in den Weg fallenden Muster¬ elementen aus.
    [0013] Zur Ausführung des Musters kann Siebdruck verwendet werden, in diesem Falle wird auf dem Sieb mittels phototechnischer Methoden eine dem Muster entsprechende Gestalt gebildet , dann wird das Sieb in einer bezogen auf die Schablo¬ ne 2 fixierten Stellung auf die Ober¬ fläche des Materials gedrückt und dadurch auf der Strumpfhose 1 das Muster abgebildet. Nach- dem die Farbe angetrocknet ist, wird die Scha¬ blone 2 umgedreht und mit einem zweiten Sieb das Muster der Rückseite aufgetragen.
    [0014] Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens erfolgt der Auftrag des Musters in abweichender Form. Die Schablone 2 wird in der gleichen Weise ausge¬ bildet, jedoch wird dazu eine Metallplatte, vorzugsweise eine Aluminiumplatte, verwendet. Es ist zweckmäßig, die Oberfläche der Platte mit einer dünnen Teflon- oder Silikongummi- Schicht' zu versehen.
    [0015] Die Strumpfhose 1 wird auf die Schablone 2 aufgezogen, dann wird mittels Siebdruck an den dem Muster entsprechenden Stellen statt Farbe ein Klebstoff auf die Oberfläche des Materials aufgetragen.
    [0016] Die Erläuterung der folgenden Schritte er¬ folgt an Hand der Fig. 3. In Fig. 3 ist eitT Ar¬ beitstisch 4 abgebildet, der eine aus Metall, vorzugsweise Aluminium, gefertigte Deckplatte 5 aufweist. An den Seiten des Arbeitstis-hes 4 sind zur Tischebene senkrecht stehend Glas¬ platten 5 angebracht, an denen eine aus Alumi¬ nium gefertigte Halteplatte 7 befestigt ist. In der Halteplatte 7 ist eine den Maßen der
    [0017] Schablone 2 entsprechende Öffnung ausgebildet. An den unteren Rändern der Öffnung befinden sich kleine Befestigungselemente 8. Die Deck¬ platte 5 und die Halteplatte 7 sind an einen Spannungsgenerator 9 angeschlossen.
    [0018] In den von den Glasplatten 6 umgrenzten, etwa 50-150 mm hohen Raum werden aus etwa 0,1 mm langen farbigen Polyamid- oder sonstigen Kunstfasern bestehende Flaumflocken (flock) eingefüllt, dann wird die Schablone 2 in die Öffnung der Halteplatte 7 eingesetzt. Die Schablone 2 wird von den Befestigungselemen¬ ten 8 in der aus Fig. 3 ersichtlichen Lage fixiert . Nun wird der Spannungsgenerator 9 eingeschaltet, und für eine bestimmte Zeit, zum Beispiel für 5-10 Sekunden zwischen die Deckplatte 5 und die Halteplatte 7 eine Span¬ nung von etwa 100 kV gelegt . Durch die Span¬ nung fliegt der Flock an die untere Fläche der Deckplatte 7 und der Schablone 2. Nach Entfernen der Schablone 2 haftet der Flock an den dem Muster entsprechenden Stellen der Strumpf¬ hose.
    [0019] Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren können ästhetische, gefällige Muster gestaltet werden, weil- die Form der Ränder der Schablone immer entsprechend dem jeweiligen Muster gestaltet wird. Durch den elektrostatischen Musterauftrag ist das Verfahren schneller und billiger.
    权利要求:
    Claims
    Patentansprüche
    1. Verfahren zur nachträglichen Musterung von durch Rundstricken oder Rundwirken hergestellten Kleidungsstücken, insbesondere Strümpfen und Strumpfhosen, wobei das Kleidungsstück auf eine ebene Schablone gezogen, dort ausgespannt und auf dem auf die Schablone gespannten Kleidungsstück der Abdruck des Musters erzeugt wird, dadurchgekennzeichnet, dass die Schablone (2) dem Muster entsprechend so ausgebildet ist, dass ihre Ränder (3) mit den musterfreien Gebieten des Kleidungsat ückeszusammenfallen.
    2. Verfahren nach Anspruch1, dadurch ge kennzeichnet,dass zur Aus führung des .4bdruc < esdes Musters auf das Kleidungsstück ein Bindemittel aufgetragen und auf das auf die Schablone gespannte Kleidungsstück auf elektrostatischem Wege Flaumfloci < en(flock) aufgebracht werden.
    3. Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1 oder 2, enthaltend eine Schablone zur Aufnahme von l < leidungs-stücken, dadurch gekennzeichnet, dass die Schablone (2) aus einer Metallplatte besteht und in den Zwischenräumen des Musters verlaufende Ränder (3) aufweist.
    4. Einrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet,dass die Schablone (2) einen Teflon- oder Silikonüberzug aufweist.
    5. Einrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass sie einen mit einer mteallischen Deckplatte (5) ausgerüsteten Arbeitstisch (4) aufweist, über der Deckplatte und von dieser durch einen Zwischenraum getrennt und elektrisch isoliert eine aus Metall bestehende Halteplatte (7) befestigt ist, in der sich eine der Gestalt der Schablone (2) entsprechende Offnung befindet, und die Deckplatte (5) sowie die Halteplatte (7) mit einem die zum elektrostatischen Überziehen erforderliche Spannung herstellenden Spannungsgenerator (9) verbunden sind.
    类似技术:
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    同族专利:
    公开号 | 公开日
    HUT57851A|1991-12-30|
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    AU1424488A|1988-10-10|
    引用文献:
    公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题
    法律状态:
    1988-09-22| AK| Designated states|Kind code of ref document: A1 Designated state(s): AU BR JP KR US |
    1988-09-22| AL| Designated countries for regional patents|Kind code of ref document: A1 Designated state(s): AT BE CH DE FR GB IT LU NL SE |
    优先权:
    申请号 | 申请日 | 专利标题
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